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實(shí)用新型:一種簡易氧化浸出槽

來源:本站  發(fā)布時(shí)間:2017年11月28日 作者:

專利名稱:一種簡易氧化浸出槽

專利類型:國家實(shí)用新型專利 

申請人:中南大學(xué) 

發(fā)明人:田慶華;王浩;郭學(xué)益;辛云濤

專利號:201720218232.3

授權(quán)公告日 2017.11.28 

摘要:一種簡易氧化浸出槽,包括上端蓋、陰極槽體、陽極棒、陽離子隔膜,所述陽極棒可旋轉(zhuǎn),所述陽離子隔膜固定在上端蓋上,陽極棒從上端蓋中心穿過,陽極棒被陽離子隔膜包裹,陽離子隔膜包圍的中間區(qū)域即為陽極室,所述陽極棒與電源正極相連;所述陰極槽體的外部上側(cè)設(shè)有電極接口,與電源負(fù)極相連;所述陽離子隔膜與陰極槽體的中間區(qū)域即為陰極室。本實(shí)用新型利用陽極的強(qiáng)氧化作用對礦物漿料進(jìn)行浸出,不進(jìn)行沉積、凈化等工序,控制陰極電位高于被處理礦物中金屬離子的沉積電勢;電解過程中陽極棒不斷旋轉(zhuǎn),帶動陽極室中礦物漿料的運(yùn)動,減少濃差極化,可以極大的減輕礦漿貧化。

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