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實(shí)用新型:一種制備納米級(jí)羥基氧化鈷的裝置

來(lái)源:本站  發(fā)布時(shí)間:2014年08月07日 作者:

專利名稱:一種制備納米級(jí)羥基氧化鈷的裝置

專利類(lèi)型:實(shí)用新型

申請(qǐng)人:中南大學(xué)

發(fā)明人:郭學(xué)益;辛云濤;王恒利;田慶華;李棟

專利號(hào)

授權(quán)公布日:2014.06.25

摘要:本實(shí)用新型公開(kāi)了一種制備納米級(jí)羥基氧化鈷的裝置,包括一個(gè)高壓反應(yīng)釜(0),所述的高壓反應(yīng)釜(0)的內(nèi)底部設(shè)有曝氣裝置,串聯(lián)的空氣壓縮機(jī)(11)和臭氧發(fā)生裝置與所述的曝氣裝置連接,所述的高壓反應(yīng)釜(0)內(nèi)設(shè)有溫度調(diào)節(jié)裝置和攪拌裝置,所述的高壓反應(yīng)釜(0)上設(shè)有進(jìn)液口(4)、排液口(41)和出氣口(14),所述的出氣口(14)內(nèi)設(shè)有減壓閥(5)。本實(shí)用新型是一種簡(jiǎn)單高效且產(chǎn)品質(zhì)量高的生產(chǎn)羥基氧化鈷的制備納米級(jí)羥基氧化鈷的裝置。

 

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