發(fā)明專利名稱： 納米級二氧化鈦光催化凈化環(huán)境材料的制備方法及設(shè)備

發(fā)明人：許開華;郭學(xué)益;李啟厚

專利號： ZL 02121316.X

專利權(quán)人：深圳市格林美環(huán)境材料有限公司

授權(quán)公告日： 2003.12.31

摘要： 本發(fā)明公開了一種通過水解法獲得納米級二氧化鈦的方法和設(shè)備，本工藝通過方便地控制各種反應(yīng)物的進(jìn)料和各種反應(yīng)條件可以獲得1～100nm，尤其是20～30nm的比表面積大的納米級的晶體粒徑均一的針狀二氧化鈦晶體，其是在普通的設(shè)備中常溫實(shí)現(xiàn)的，因此，與現(xiàn)有技術(shù)中的高溫氣相法相比，其制備成本可降低一半，其于現(xiàn)有的液相溶膠凝膠法相比，其制備成本也降低三分之一。